蔡司Sigma 300 场发射扫描电镜

蔡司Sigma 300 场发射扫描电镜.jpg

产品描述

蔡司公司最新推出Sigma300场发射扫描电镜采用成熟的GEMINI光学系统设计,将低电压成像技术发挥到了极致,采用适宜的探针电流范围,降低50%的信噪比从而提升了85%的衬度信息。Sigma300将高级的分析性能与场发射扫描技术相结合,多种探测器可选:用于颗粒、表面或者纳米结构成像。Sigma自动的四步工作流程大大节省了设置与分析操作的时间,提高效率。

产品应用

扫描电镜(SEM)广泛地应用于金属材料(钢铁、冶金、有色、机械加工)和非金属材料(化学、化工、石油、地质矿物学、橡胶、纺织、水泥、玻璃纤维)等 检验和研究。在材料科学研究、金属材料、陶瓷材料、半导体材料、化学材料等领域进行材料的微观形貌、组织、成分分析,各种材料的形貌组织观察,材料断口分   析和失效分析,材料实时微区成分分析,元素定量、定性成分分析,快速的多元素面扫描和线扫描分布测量,晶体、晶粒的相鉴定,晶粒尺寸、形状分析,晶体、晶 粒取向测量。

技术参数

  • 分辨率:1.0nm@30kV STEM 、1.0nm @15 kV  、1.8nm @1kV
  • 放大倍数:10-1,000,000×
  • 加速电压:调整范围:0.02-30 kV(无需减速模式实现)
  • 探针电流: 3pA~20nA(100nA选配)  稳定性优于 0.2%/h
  • 低真空范围: 2-133Pa (Sigma 300VP可用)
  • 样品室: 365 mm(φ),275mm(h)
  • 样品台:5轴优中心全自动    X=125mm  Y=125 mm  Z=50 mm  T=-10o-90o  R=360o 连续
  • 系统控制:基于Windows 7的SmartSEM操作系统,可选鼠标、键盘、控制面板控制
  • 存储分辨率:32k x 24k pixels

 

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